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采用磁控濺射法所生產的導電膜玻璃可根據電池膜層的光透過需求自由選配,可采用普通、超白或特種玻璃原片進行磁控濺射成膜, 并根據客戶要求的膜厚、電阻、表面結構等進行沉積,而對于在線噴霧熱解法生產的FTO(摻氟的SnO2:F導電玻璃)等產品無法根據客戶需求訂制參數；另外，磁控濺射法所生產的TCO產品可以先進行鋼化成型再鍍膜，不僅具有更好的平整度，更可提供高強度的保障，為BIPV的應用創造了更佳的前提條件。
目前在線法生產的導電玻璃表面方塊電阻在13Ω左右,而高檔的離線生產的AZO玻璃的面電阻蝕刻前僅8Ω,而蝕刻后更可達到10Ω左右,這就是磁控濺射法生產AZO膜玻璃的主要優勢所在。采用連續式濺射生產線所生產的高檔TCO最終可將產品弓形彎曲控制在≤0.3%,波形度在≤0.08%(0.24/300mm),唯有這樣的平整度才能夠保證激光刻線的線寬均勻性及夾層后更好的密封性能。