供應氧化釔靶材，氧化釔靶材定做

磁控濺射靶材 

（可為電子與半導體，平面顯示行業(yè)，建筑與汽車玻璃行業(yè)，薄膜太陽能電池行業(yè)，磁存儲行業(yè)，工具行業(yè)，裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材） 

高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶Al，鉻靶Cr，銅靶Cu，鎳靶Ni，硅靶Si等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。 

高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶MGO、氧化釔靶Y2O3，氧化鐵靶Fe2O3，氧化鎳靶Ni2O3，氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS等高密度陶瓷濺射靶材。 

備注：CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界最先進的陶瓷生產(chǎn)工藝；惰性氣體保護熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。

高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶Ni-V，鎳鉻合金靶Ni-Cr，鈦鋁合金靶Ti-Al，硅鋁合金靶Si-Al，銅銦合金靶Cu-In，銅鎵合金靶Cu-Ga，銅銦鎵合金靶Cu-In–Ga，銅銦鎵硒靶Cu-In–Ga-Se，不銹鋼靶，鋅鋁合金靶Zn-Al，鎢鈦　W-Ti，鐵鈷　Fe-Co，白銅靶等高純合金濺射靶材。 

備注：CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。