氫氣還原爐 氫氣氣氛爐

一、氫氣還原爐用途

氫氣還原爐適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料、熒光粉的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在還原、惰性氣氛環境下進行燒結。

二、氫氣還原爐特點

1、控制精度：±1℃    爐溫均勻度：±1℃(根據加熱室大小而定) 。

2、微電腦控制，操作方便，可編程，自動升溫、自動保溫、自動降溫。

3、爐管采用剛玉99陶瓷。

4、不銹鋼金屬法蘭密封（雙膠圈）

5、爐體溫度接近室溫

6、雙回路保護

7、進口耐火材料，保溫性能好，耐溫高

8、最大真空度 -0.1Mpa

9、可通多種氣體（氧氣、氮氣、氬氣、氫氣等）

10、溫度類別：1000℃    1200℃   1400℃   三種

三、氫氣還原爐參數

注：可根據用戶要求另行設計制造，更多規格及參數和詳細技術方案請來電咨詢！